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塑料真空镀膜设备促进真空镀膜产品的普遍使用

发表时间: 2019-05-22 0:24:01浏览: 25
[文]塑料真空镀膜设备的发展非常快。随着生产率的提高,生产成本大大降低,为真空镀膜产品的广泛应用铺平了道路。以卷绕式真空镀膜机为例,显影时可镀的薄膜基材为0mm,现已达到2253mm。基材辊的最大辊直径为1000mm,最大卷绕速度为750m / min。具有自动上下料的半连续卷绕真空镀膜机占总循环时间的75%,辅助操作时间仅占25%。从大气到大气的更高效的卷对卷真空镀膜机于1977年销售。随着测量技术,控制技术和电子计算机应用的进步,卷对卷真空镀膜机正朝着这个方向发展高自动化和高可靠性。可以通过滚涂真空涂布机沉积的涂层的厚度范围为0.01至0.2μm,m,可以在该范围内选择,并且一些涂层也可以涂覆多层膜以满足各种需要。该日本专利提出了一种辊式气相沉积装置,其沉积两种不同的涂层材料。该装置的真空室(6)分为上室(7),左下室(8)和右下室(9)。在蒸发过程中,由两个蒸发源(19,23)蒸发的涂层材料(21,25)分别沉积在塑料薄膜(11)上,辉光放电发生器安装在塑料薄膜不在的一侧。气相沉积(,16)。发生器产生的辉光放电气体可防止塑料薄膜起皱。使用该装置,可以在非常薄的塑料薄膜上涂覆无皱的多层薄膜,用于带和薄膜太阳能电池。该装置的示意图如图1所示。图1改进的绕线型气相沉积装置近年来,高速低温溅射方法得到迅速发展,并且高熔点金属的沉积如铬,钛,钨,钼等是可能的。已经投入使用直径为1400mm,高度为2,200mm的大型钟罩式溅射涂布机和长度为mm,宽度为7.6mm的大型串联溅射涂布机。最近,日本专利提出了一种辊式溅射镀膜机,它可以镀两种非定向涂层材料,并在第一溅射区和第二溅射区之间安装一个温度控制装置(),以加强基板的冷却。当涂层较厚并且沉积速度较快时,基板不会卷曲和变形。该装置的示意图如图1所示。真空室(1)设有溅射靶(4a,4b)和阳极(14a,14b),两个靶分别连接到DC电源(5a)。 ,5b)溅射塑料薄膜(8)。辊(11a,11b,11c)具有各自的冷却温度。
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